立法宗旨
保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术创新，促进科学技术发展。
立法与修订
2026年8月4日国务院公布修订的《集成电路布图设计保护条例》，自2026年10月15日起施行。
2001年9月18日国家知识产权局公布《集成电路布图设计保护条例实施细则》，2001年10月1日施行。
国家知识产权局2026年8月3日发布的《实施细则修改草案（征求意见稿）》征求意见已于2026年9月3日结束，修改草案已完成公开征求意见，尚待正式公布生效。
集成电路布图设计/strong)
集成电路布图设计（以下简称布图设计），是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。
前述集成电路是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。
布图设计权利人，是指依照本条例的规定，对布图设计享有专有权的自然人、法人或者非法人组织。
布图设计的复制，是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为。
布图设计的商业利用，是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。
对集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计，可以依照本条例的规定予以保护。
布图设计管理机关
国家知识产权局依照本条例的规定，负责全国的布图设计专有权有关管理工作。
诚实信用与权利运用
申请布图设计登记和行使布图设计专有权应当遵循诚实信用原则。不得滥用布图设计专有权损害国家利益、社会公共利益或者他人合法权益。滥用布图设计专有权，排除或者限制竞争，构成垄断行为的，依照《中华人民共和国反垄断法》处理。
